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下一代HBM,SK海力士出招了

半导体芯闻:SK海力士已开始与其供应链合作伙伴展开磋商,为下一代高带宽内存( HBM)技术“iHBM”的应用和量产做准备。

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SK海力士已开始与其供应链合作伙伴展开磋商,为下一代高带宽内存( HBM)技术“iHBM”的应用和量产做准备。该技术旨在降低HBM的发热量,是SK海力士在竞争激烈的 HBM市场中保持领先地位的战略举措。据业内人士21日透露,SK海力士近期已与国内外材料、组件和设备(SoBuJang)合作伙伴接洽,推进iHBM技术研发并做好量产准备。据悉,双方讨论了iHBM的实际产品应用和量产计划,该技术能够最大限度地降低HBM的发热量。一位熟悉情况


的SK海力士合作伙伴公司负责人表示:“SK海力士正在探索SoBuJang合作,以将iHBM应用于实际工艺流程并实现商业化。”他还补充道:“他们似乎已经在评估实际量产可行性的同时,着手进行商业化进程。”


iHBM是SK海力士于去年5月发布的一项技术。其核心特性是在HBM最底部的基片上应用了“集成冷却元件(ICE)”。


散热仍然是HBM面临的最大技术挑战。目前,HBM由直接接触的基片和核心片(DRAM堆叠而成)组成。基片包含一个物理连接部分(D2D pi),用于与图形处理器(GPU)进行超高速数据通信;然而,随着数据计算量和HBM层数的增加,发热量也会加剧。由于这些热量通过核心片散发,因此散热效率很低。


这是提升AI基础设施性能的最大障碍之一。散热控制不佳会导致能效显著下降,还会导致性能下降、系统错误和寿命缩短。因此,HBM制造商正致力于散热控制。


iHBM在基片的通信连接部分集成了一个隔热(ICE)元件,从而开辟了一条新的散热路径。 SK海力士解释说,这项技术可以将热阻降低30%以上。这意味着即使在高温高负载环境下,HBM也能稳定运行,从而提升人工智能基础设施的效率。


iHBM采用基于晶圆级封装(WLP)工艺的技术,该工艺基于SK海力士已采用的先进MR-MUF技术(一种用于堆叠HBM芯片并一步填充间隙的秘密工艺)。因此,预计将建立与现有HBM类似的材料、零部件和设备供应链体系。据报道,SK海力士正在考虑在其现有网络的基础上扩展供应链,以提升iHBM的性能和生产效率。


SK海力士的目标是从HBM5开始应用iHBM技术。根据该公司的HBM5路线图,预计将于2029年发布。目前,该公司正在使用台积电的先进封装技术CoWoS对HBM5进行验证。


(来源:内容来自半导体芯闻综合)


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