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硅中介层,成为关键

半导体行业观察:台积电日前宣布,将释出硅中介层委外制造大单给格罗方德,总金额高达20亿美元(近新台币640亿元),使得硅中介层成为业界关注焦点,也让硅中介层后市发展更有想像空间。

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台积电日前宣布,将释出硅中介层委外制造大单给格罗方德,总金额高达20亿美元(近新台币640亿元),使得硅中介层成为业界关注焦点,也让硅中介层后市发展更有想像空间。台厂中,联电、力积电均积极挥军硅中介层,抢搭相关商机。


根据台积电与格罗方德的协议,台积电将委由格罗方德在美国纽约州生产CoWoS所需硅中介层,预计2028年上半年逐步放量,相关协议长达五年。


法人认为,这透露AI催动先进封装对硅中介层需求强劲,台积电为了确保硅中介层产能无虞,扩大委外释单。


法人指出,台积电与格罗方德签订硅中介层供应长约,等于是为硅中介层后市按赞,凸显AI封装关键零组件需求持续扩大。


台湾两大成熟制程代工厂联电、力积电正积极布局硅中介层制造,分别透过既有产能调整、扩充硅中介层量能,搭配硅电容与3D堆叠技术,抢进AI与高效能运算(HPC)供应链,为成熟制程开拓新出海口,同步抢食硅中介商机。


业界分析,硅中介层是串接AI处理器与高频宽记忆体(HBM)的重要桥梁,透过高密度线路,让不同晶片在同一封装内高速传输数据,支撑庞大运算需求,在AI晶片整合更多记忆体与运算单元,封装面积及互连需求同步提升,带动中介层技术与产能需求。


联电投入硅中介层多时,正积极扩产,月产能将由3,000片倍增至6,000片,以因应客户先进封装需求。另外,联电还导入深沟槽电容的2.5D封装方案已出货予主要客户,主动式中介层也与多家客户进行验证,持续拓展AI应用。


联电相关技术涵盖硅中介层、深沟槽电容、晶圆级混合键结及主动式中介层,并与封测厂合作开发量产方案,从晶片互连、电源效率到异质整合,扩大先进封装服务范围,争取后续客户导入商机。


力积电以「3D AI晶圆代工」为转型重点,将记忆体制造与成熟制程优势,延伸至硅中介层、硅电容及晶圆堆叠,今年并展示中介层、整合型被动元件硅电容与3D WoW DRAM堆叠技术,锁定AI对大容量、高频宽及供电稳定性的需求。


在产能配置上,力积电规划运用P3厂等既有资源扩大中介层布局,并结合深沟槽制程发展高密度硅电容,前者负责晶片间的高速互连,后者有助改善供电品质,两项技术相互搭配,扩大切入先进封装市场的机会。


(来源:经济日报)


*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。


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今天是《半导体行业观察》为您分享的第4557期内容,欢迎关注。


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